El miércoles 15/02 a las 16 hs.
Dra. Stella M. Van Eek
Senior Process Development
FHR Anlagenbau GmbH
Dresden,Germany
presentará
Hoy en día una de las tecnologías más empleadas para depositar películas delgadas en escala industrial es el sputtering o pulverización catódica.
En esta charla mostraré ejemplos del desarrollo tanto de los procesos como de los equipos de alto vacío para deposición de películas delgadas fabricados por la empresa FHR Anlagenbau GmbH.
Los equipos se caracterizan mayormente por los substratos que pueden recubrir. Equipos “Roll-to-Roll” se muestran como ejemplo de recubrimientos para substratos flexibles, como el PET, PI (capton), etc. Equipos “Line” recubren substratos rígidos y extensos (1000 mm x 2000 mm), por ejemplo vidrio para la industria fotovoltaica o arquitectónica.
Un gran número de productos se logran gracias al trabajo en conjunto de la empresa FHR y los Institutos Fraunhofer, de investigación aplicada. Como ejemplo se muestra el equipamiento para producir filtros ópticos, que resultan de intercalar capas de diferentes índices de refracción sobre lentes de vidrio.
